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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 亚分辨率辅助图形及其形成方法
    亚分辨率辅助图形及其形成方法_重庆芯联微电子有限公司_202510249622.6
    本发明提供亚分辨率辅助图形及其形成方法，光刻图形中至少包括相邻的一个第一目标图形和一个第二目标图形，第二目标图形的关键尺寸大于第一目标图形的关键尺寸；依次添加第一亚分辨率辅助图形和第二亚分辨率辅助图形，形成第二亚分辨率辅助图形的禁止区域；判...
    2025-05-16
  • 极紫外光刻掩模
    极紫外光刻掩模_IMEC非营利协会_202411241361.5
    一种极紫外光刻掩模(1)，所述掩模(2)包括：多层反射镜(11)，以及位于所述多层反射镜(11)上方的经图案化吸收层(12)，其中所述吸收层(12)的厚度(t)在15至35nm之间并且折射率至多是0.93。
    2025-05-16
  • 抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法
    抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202080012809.X
    本发明是有关于一种抗蚀剂底层组成物及一种使用所述组成物形成图案的方法。根据实施例，所述抗蚀剂底层组成物包含：聚合物，包括在末端处由化学式1表示的结构以及在主链中由化学式2表示的结构单元及由化学式3表示的结构单元；以及溶剂。化学式1至化学式3...
    2025-05-16
  • 一种抗反射层的厚度确定方法
    一种抗反射层的厚度确定方法_粤芯半导体技术股份有限公司_202510259300.X
    本申请提供了一种抗反射层的厚度确定方法，其中，该方法包括：获取待曝光晶圆对应的目标区域图形的图形文件；获取至少一个预设窗口图形和所述目标区域图形分别对应的预设抗反射层厚度；将所述图形文件和所述预设抗反射层厚度输入至光学临近修正模型来执行光学...
    2025-05-16
  • 一种刻蚀槽深度均匀性控制方法
    一种刻蚀槽深度均匀性控制方法_国科光芯金杏(北京)实验室科技有限公司_202510124224.1
    本发明提供了一种刻蚀槽深度均匀性控制方法，包括：在波导衬底上形成刻蚀停止层，并对刻蚀停止层进行图形化处理，获得刻蚀停止层结构；在刻蚀停止层结构上形成波导层，并对波导层进行图形化处理，获得波导结构；在波导结构上制备形成第一氧化硅层，以使第一氧...
    2025-05-16
  • 一种驱动头组件、盒和图像形成设备
    一种驱动头组件、盒和图像形成设备_珠海奔图电子有限公司_202411932422.2
    本申请涉及图像成型技术领域，尤其涉及一种驱动头组件、盒和图像形成设备。驱动头组件，用于设置在盒上，盒可拆卸安装于图像形成设备，驱动头组件包括安装座、状态切换件、第一驱动件和第二驱动件，状态切换件安装于安装座，且能够相对于安装座在第一位置和第...
    2025-05-16
  • 一种有机光导鼓及其制备方法和应用
    一种有机光导鼓及其制备方法和应用_珠海横界科技有限公司_202411104239.3
    本发明属于成像设备技术领域，提供了一种有机光导鼓及其制备方法和应用。本发明提供的有机光导鼓的传导层用涂料包括特定配比的空穴传输材料、聚碳酸酯、聚硅氮烷，有助于提高传导层的力学性能和化学稳定性，进一步由涂料制得的有机光导鼓，能够在长时间连续上...
    2025-05-16
  • 一种基于单层正性光刻胶的金属网栅电磁屏蔽光学窗口的制备方法
    一种基于单层正性光刻胶的金属网栅电磁屏蔽光学窗口的制备方法_有研国晶辉新材料有限公司_202411457627.X
    本发明涉及电磁屏蔽材料技术领域，公开了一种基于单层正性光刻胶的金属网栅电磁屏蔽光学窗口的制备方法。本发明提出了通过两次不同方向的曝光，进而在光学窗口表面形成底切结构的光刻胶图形并制得金属网栅电磁屏蔽光学窗口的方法。在两次曝光时，第一次曝光为...
    2025-05-16
  • 显影盒及图像形成装置
    显影盒及图像形成装置_珠海墨美影像科技有限公司_202411726026.4
    本发明涉及打印设备技术领域，提供一种显影盒及图像形成装置，其中显影盒包括：盒本体；感光构件，设于盒本体上，感光构件包括鼓件以及贴合在鼓件表面的充电件；送粉构件，设于盒本体上，包括第一辊和用于储存调色剂的储存腔；检测构件，设于盒本体上，包括执...
    2025-05-16
  • 一种投影系统
    一种投影系统_苏州佳世达光电有限公司_202421477804.6
    本实用新型所提供的投影系统包含光源模组、空间光调制模组、投影镜头及反射模组。该光源模组提供至少一种色光，该空间光调制模组设置于该光源模组的出光路径上，用于调制该至少一种色光以形成投影光束。该投影镜头用来接收该投影光束并沿初始方向投射。该反射...
    2025-05-16
  • 两级AMTEC-两级TEG太阳能热发电系统及其参数优化方法
    两级AMTEC-两级TEG太阳能热发电系统及其参数优化方法_成都工业学院_202510070893.5
    本发明公开了两级AMTEC‑两级TEG太阳能热发电系统及其参数优化方法，具体涉及太阳能热发电系统技术领域，其技术要点为：系统包括蝶式太阳能集热器、两级AMTEC设备以及两级温差发电器，蝶式太阳能集热器用于接收太阳能光辐射并将太阳能光辐射转换...
    2025-05-16
  • 一维图案的光学临近修正方法、存储介质、电子设备
    一维图案的光学临近修正方法、存储介质、电子设备_重庆芯联微电子有限公司_202510249624.5
    本发明提供了一种一维图案的光学临近修正方法、存储介质、电子设备，所述方法包括建立各尺寸的一维图案在各空间环境下模型误差表，所述模型误差表由数值补值表及模型补值表得到，所述数值补值表由各尺寸的一维图案在各空间环境下基于规则的光学临近效应修正获...
    2025-05-16
  • 防护膜组件的拆卸方法及防护膜组件的拆卸装置
    防护膜组件的拆卸方法及防护膜组件的拆卸装置_三井化学株式会社_202080076341.0
    本发明的目的在于提供光掩模的污染的抑制性优异的防护膜组件的拆卸方法。提供一种防护膜组件的拆卸方法，其包括下述工序：准备层叠体的工序，所述层叠体按下述顺序的配置具备光掩模(805)、防护膜组件框(803)以及防护膜(802)；准备电极(810...
    2025-05-16
  • 一种用于微器件深硅刻蚀的厚胶光刻工艺
    一种用于微器件深硅刻蚀的厚胶光刻工艺_浙江芯动科技有限公司_202510077710.2
    本申请涉及MEMS产品加工制造技术的领域，尤其是涉及一种用于微器件深硅刻蚀的厚胶光刻工艺，具体包括以下步骤，对衬底表面进行清洗以去除污染物；在衬底表面形成厚度均匀的光刻胶层；对衬底依次进行前烘、曝光、后烘和显影；进行温度范围为70～95℃且...
    2025-05-16
  • 一种刻蚀槽内金属电极制备方法
    一种刻蚀槽内金属电极制备方法_国科光芯金杏(北京)实验室科技有限公司_202510124214.8
    本发明提供了一种刻蚀槽内金属电极制备方法，包括：在波导衬底上刻蚀形成金属沉积槽；形成金属电极层，以通过金属电极层将金属沉积槽的表面和波导衬底的表面覆盖，在金属沉积槽内的金属电极层上形成图形化的第一光刻胶层；以第一光刻胶层为掩模，通过干法刻蚀...
    2025-05-16
  • 光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜及图案形成方法
    光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜及图案形成方法_信越化学工业株式会社_202411591406.1
    本发明提供一种光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜及使用该光敏树脂组合物、光敏树脂覆膜、光敏干膜的图案形成方法，所述光敏树脂组合物能够在无铜变色的状态下容易地形成为厚膜且微细的图案，并且能够形成抗铜迁移性、对基材的密合性、可靠性优异的树脂...
    2025-05-16
  • 磁吸转接座
    磁吸转接座_深圳市优篮子科技有限公司_202421756309.9
    本实用新型涉及一种磁吸转接座，包括基座和带转接孔的转接板，基座具有沿其厚度相对的第一端和第二端，第一端磁吸安装外接设备，第二端设有第一冷靴接口；转接板转动连接于第二端且能够在展开状态和收纳状态之间切换，在收纳状态时，转接板收纳于第一冷靴接口...
    2025-05-16
  • 一种检测机构、显影盒及图像形成装置
    一种检测机构、显影盒及图像形成装置_广州众诺微电子有限公司_202510324054.1
    本申请公开了一种检测机构、显影盒及图像形成装置，涉及打印机技术领域。检测机构包括传动件、拨杆、触发件和锁止件；传动件能绕第一方向转动，传动件周侧具有第一凸部和至少一个第二凸部，第一凸部上凸出设置有锁止触发部；拨杆具有第一活动端和第二活动端，...
    2025-05-16
  • 信息处理装置、信息处理方法和耗材
    信息处理装置、信息处理方法和耗材_珠海奔图电子有限公司_202510353135.4
    本申请实施例提供一种信息处理装置、信息处理方法和耗材，根据本申请提供的方案，信息处理装置可以检测图像形成装置对其的供电电压情况，基于供电电压情况，确定对对从图像形成装置接收的请求的响应情况，解决耗材或者信息处理装置无法正确应对供电电压不理想...
    2025-05-16
  • 一种便于清理的废粉盒
    一种便于清理的废粉盒_成都博派科技有限公司_202421638220.2
    本实用新型属于复合机技术领域，尤其为一种便于清理的废粉盒，包括废粉盒本体，所述废粉盒本体内滑动有抽屉，所述废粉盒本体的两端均设有限位组件，所述废粉盒本体上端设有进粉管，所述进粉管上设有延伸组件，所述进粉管的上端安装有导向环；所述延伸组件包括...
    2025-05-16
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