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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 去除极紫外光光刻光罩上的缺陷的方法
    去除极紫外光光刻光罩上的缺陷的方法_南亚科技股份有限公司_202410373007.1
    本揭露的实施例提供一种去除极紫外光光刻光罩上的缺陷的方法，包括以下步骤。接收在极紫外光光刻光罩上具有至少一缺陷的极紫外光光刻光罩，其中吸收层及图案层共同地在覆盖层上形成具有覆盖部分及暴露部分的图案，且至少一缺陷在覆盖层上的暴露部分中形一被遮...
    2025-08-05
  • 用于光刻过程中的多参数感测的多通道锁相相机
    用于光刻过程中的多参数感测的多通道锁相相机_ASML荷兰有限公司_202380089783.2
    一种量测系统可以包括照射系统、相机和分析器系统。所述照射系统朝向目标发送照射。所述照射具有与对应的多个调制频率相关联的多个照射参数。所述相机从所述目标接收散射照射，并且按照所述相机的每个像素生成用所述多个调制频率的识别标志编码的测量信号。所...
    2025-08-05
  • 一种无碱体系显影液及其显影方法
    一种无碱体系显影液及其显影方法_深圳市板明科技股份有限公司_202510879705.3
    本发明公开了一种无碱体系显影液及其显影方法，涉及线路板生产技术领域。该无碱体系显影液包括以下质量浓度的组分：显影剂3.0‑6.0%；加速剂1.0‑3.0%；湿润剂0.5‑2.0%；助渗剂1.0‑3.0%；稳定剂0.2‑1.0%。本发明的无碱...
    2025-08-05
  • 用于扫描叠加计量的跟踪实时位置的系统及方法
    用于扫描叠加计量的跟踪实时位置的系统及方法_科磊股份有限公司_202480005700.1
    一种方法可包含接收来自两个或更多个光电检测器的与光栅结构及参考光栅结构相关联的时变干扰信号。所述光栅结构可包含一或多个衍射光栅，其中所述参考光栅结构包含经布置为接近所述光栅结构的所述一或多个衍射光栅的参考光栅，且其中在相对于一或多个照明光束...
    2025-08-05
  • 一种掩模版优化方法
    一种掩模版优化方法_澳芯集成电路技术(广东)有限公司_202210033172.3
    本发明公开了一种掩模版优化方法，其可避免掩模版图型产生桥连现场，可确保光刻效果、提升产品良品率，掩模版优化方法基于OPC修正模型实现，该方法包括：提供一目标版图；采用OPC修正模型对目标版图上的初始图型进行优化，获得优化掩模版；OPC修正模...
    2025-08-05
  • 一种接触式双工位自动曝光机的对准显微镜定位机构
    一种接触式双工位自动曝光机的对准显微镜定位机构_三河建华高科有限责任公司_202210495125.0
    本发明提供了一种接触式双工位自动曝光机的对准显微镜定位机构，包括曝光光源移动组件、曝光光源组件和对准显微镜限位组件，所述曝光光源移动组件包括光源移动滚珠丝杠、光源移动电机、滑动机构和安装板。本发明在高效率和较低成本的情况下保证了第一对准显微...
    2025-08-05
  • 使用可交联硅氧烷化合物的正型光刻胶配制剂
    使用可交联硅氧烷化合物的正型光刻胶配制剂_默克专利股份有限公司_202080070795.7
    本发明涉及包含使用可交联硅氧烷聚合物的正型光刻胶配制剂。用于该正型光刻胶配制剂中的硅氧烷聚合物是可交联的且包含含有至少一个马来酰亚胺基团的第一重复单元及不含有马来酰亚胺基团的第二重复单元。本发明进一步提供使用根据本发明的正型光刻胶配制剂制造...
    2025-08-05
  • 一种正性光刻胶组合物及其应用
    一种正性光刻胶组合物及其应用_上海彤程电子材料有限公司_202510374407.9
    本发明提供了一种正性光刻胶组合物及其用途，涉及光刻技术领域。该正性光刻胶组合物，原料组分包括：溶质和第一溶剂；其中，所述溶质包括70wt％‑96wt％化学放大正性光刻胶基体树脂、1wt％‑30wt％光致产酸剂、0.1wt％‑15wt％酸淬灭...
    2025-08-05
  • 一种用于微型投影的变焦物镜系统
    一种用于微型投影的变焦物镜系统_深圳市点睛创视技术有限公司_202310502984.2
    本发明提供了一种用于微型投影的变焦物镜系统，包括：依次排布的第一群组透镜、光阑、第二群组透镜、振镜、分光器件、保护玻璃和成像面；所述成像面用于发出光线；所述振镜用于成像的像素；所述分光器件用于将所述光线进行分束；所述光阑用于控制分束后的光的...
    2025-08-05
  • 一种极紫外光刻掩模相位缺陷的相干调制检测装置及方法
    一种极紫外光刻掩模相位缺陷的相干调制检测装置及方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202510327328.2
    本发明公开了一种极紫外光刻掩模相位缺陷的相干调制检测方法及装置，通过迭代算法实现纳米级相位缺陷的高精度全场重建。该装置采用紧凑型极紫外光源生成高亮度相干光，经多层膜聚焦光学器件反射聚焦探针光，以布拉格角入射掩模，反射光携带相位缺陷信息，经调...
    2025-08-05
  • 投影显示装置及其光学遮蔽件
    投影显示装置及其光学遮蔽件_台达电子工业股份有限公司_202410100888.X
    本案关于一种光学遮蔽件，适用于投影显示装置。投影显示装置包含发光单元及数字微镜装置。发光单元以入射光投射至数字微镜装置，使数字微镜装置反射入射光，并投影成像。光学遮蔽件包含框体及镀膜层。框体包含本体及中空部。本体环绕形成中空部。本体包含内侧...
    2025-08-05
  • 成像镜头、取像装置与电子装置
    成像镜头、取像装置与电子装置_大立光电股份有限公司_202311124530.2
    本发明公开一种成像镜头、取像装置及电子装置，所述成像镜头具有光轴。成像镜头包含多个光学元件、镜筒、光学辨识结构以及可固化液体。光学元件沿光轴排列。光学元件包含非圆形元件。非圆形元件包含承靠部。镜筒环绕光轴。非圆形元件收纳于镜筒。承靠部与镜筒...
    2025-08-05
  • 制备透明树脂层的方法和制造包括透明树脂层的显示设备的方法
    制备透明树脂层的方法和制造包括透明树脂层的显示设备的方法_三星显示有限公司_202510123560.4
    本申请涉及制备透明树脂层的方法和制造包括透明树脂层的显示设备的方法。制备透明树脂层的方法包括：通过将光固化组合物施加到包括第一区的基板上来形成光固化组合物层；进行(a)曝光工艺，用掩模覆盖光固化组合物层的第一区并用第一光曝光光固化组合物层；...
    2025-08-05
  • 消散斑光路结构及激光投影设备
    消散斑光路结构及激光投影设备_深圳海翼智新科技有限公司_202410123101.1
    本申请涉及一种消散斑光路结构及激光投影设备，该消散斑光路结构包括：激光光源，用于发出激光束；消散斑元件，用于透射激光光源发出的激光束；以及反射光路组件，包括反射面，激光光源发出的激光束进入消散斑元件后到达反射面，由反射面反射进入消散斑元件，...
    2025-08-05
  • 相机系统及附属品
    相机系统及附属品_富士胶片株式会社_202422250276.7
    本实用新型提供相机系统及附属品,其容易视觉辨认基于发光部的发光。该相机系统具备：相机，其具有能够通过发光来通知相机的信息的发光部；及附属品，能够安装于相机上，其中，附属品在安装于相机的状态下，作为用于确认相机的摄影范围的取景器而发挥功能，当...
    2025-08-05
  • 硅片定位装置和接触式曝光机
    硅片定位装置和接触式曝光机_天水天光半导体有限责任公司_202422170049.3
    本申请提供一种硅片定位装置和接触式曝光机，涉及光刻技术领域。硅片定位装置包括承片台和多个定位销组件，多个定位销组件均安装于承片台上，多个定位销组件在预设路径上间隔排布，多个定位销组件中位于最边侧的两个定位销组件之间形成待定位的供硅片本体进出...
    2025-08-05
  • 用于OPC建模的方法、设备和存储介质
    用于OPC建模的方法、设备和存储介质_全芯智造技术有限公司_202510416248.4
    根据本公开的示例实施例提供了用于光学邻近校正（OPC）建模的方法、设备和存储介质。该方法包括：初始化用于OPC模型的多个核函数，多个核函数至少包括第一类别的核函数和第二类别的核函数，第一类别的核函数指示随距离增加而衰减的光学邻近效应，第二类...
    2025-08-05
  • 一种多媒体影像展示装置
    一种多媒体影像展示装置_上海张江超艺多媒体系统股份有限公司_202421916819.8
    本实用新型公开了一种多媒体影像展示装置，包括支撑架，所述支撑架顶端固定连接有调平安装机构，所述调平安装机构上安装有幕布，所述支撑架底端安装有万向轮和稳定机构，所述调平安装机构包括固定板，所述固定板上转动连接有转动轴，所述转动轴侧表面固定连接...
    2025-08-05
  • 掩模版及其修正方法
    掩模版及其修正方法_锐立平芯微电子(广州)有限责任公司_202411845654.4
    本申请公开了掩模版及其修正方法。该掩模版包括：基板；位于所述基板上的主图案和辅助图案，所述辅助图案的线宽小于所述主图案的线宽，其中，所述辅助图案包括外轮廓及其围绕的开口，以使所述辅助图案的有效线宽小于实际线宽。该掩模版的修正方法包括相对于亚...
    2025-08-05
  • 基于混合表面等离子体波导曝光结构的纳米光刻方法及装置
    基于混合表面等离子体波导曝光结构的纳米光刻方法及装置_中国科学院微电子研究所_202211338625.X
    本申请公开一种基于混合表面等离子体波导曝光结构的纳米光刻方法及装置，涉及集成电路制造工艺领域。方法包括：基于所述表面等离子体光刻曝光结构的场强分布数据，结合双曲线拟合方式确定所述表面等离子体光刻曝光结构的曝光图形深度理论解析式；基于所述第一...
    2025-08-05
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