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抗蚀基材、抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法专利

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申请/专利权人:三菱瓦斯化学株式会社

申请日:2016-03-17

公开(公告)日:2018-01-02

公开(公告)号:CN107533290A

专利技术分类:.感光材料(G03F7/12,G03F7/14优先)[2006.01]

专利摘要:含有具有特定结构的化合物和或将该化合物作为单体而得到的树脂的抗蚀基材。

专利权项:一种抗蚀基材,其含有下述式1所示的化合物和或以所述化合物作为单体而得到的树脂,式1中,R1为碳数1~30的2n价基团,R2~R5各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数1~30的烷氧基、卤素原子、巯基或羟基,其中,选自R1~R5中的至少一个为包含碘原子的基团,R4的至少一个和或R5的至少一个为选自羟基及巯基中的1种以上,m2及m3各自独立地为0~8的整数,m4及m5各自独立地为0~9的整数,其中,m4及m5不同时为0,n为1~4的整数,p2~p5各自独立地为0~2的整数。

百度查询: 三菱瓦斯化学株式会社 抗蚀基材、抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法

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