龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
摘要：本发明涉及一种改善Lift‑Off工艺图形异常的方法，其包括以下步骤，在衬底表面涂覆光刻胶层；对所述光刻胶层曝光并显影，去除曝光区域的光刻胶层；在所述衬底未覆盖光刻胶层的区域进行刻蚀；在所述衬底和光刻胶层表面镀金属膜；去除所述光刻胶层及其表面的金属膜；在所述衬底未覆盖金属膜的区域进行刻蚀。本发明采用光刻胶涂布‑光刻胶曝光显影‑刻蚀‑金属层沉积‑去胶‑刻蚀‑去除金属层的方式，可明显改善传统Lift‑Off工艺图形转移时由于光刻胶和金属层粘连导致的难剥离、粘连、断裂或波浪线行侧壁，同时可以获得更小占空比的微纳结构，图形结构的边缘形貌可以明显得到改善。
主权项：1.一种改善Lift-Off工艺图形异常的方法，其特征在于：包括以下步骤，S1在衬底表面涂覆光刻胶层；S2对所述光刻胶层曝光并显影，去除曝光区域的光刻胶层；S3在所述衬底未覆盖光刻胶层的区域进行刻蚀，并控制刻蚀深度为H；S4在所述衬底和光刻胶层表面镀金属膜，并控制镀膜厚度为D，D≤H；S5去除所述光刻胶层及其表面的金属膜；S6在所述衬底未覆盖金属膜的区域进行刻蚀，并刻蚀至预定深度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 慕德微纳(杭州)科技有限公司 一种改善Lift-Off工艺图形异常的方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号