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摘要：本发明涉及金属材料表面防护涂层领域，具体为一种SiAlON涂层的制备方法。将预处理后的将钢和合金基体悬挂在样品架上，采用AlSi合金作为阴极靶材，将工作腔室抽真空后通入Ar，开启偏压电源进行高能离子轰击清洗，通入N2和O2调节工作压强，施加负偏压并调节占空比后，开启AlSi合金靶材电流，进行沉积。本发明制备的SiAlON涂层与基体结合强度良好，该涂层由晶态AlN、Si、非晶态Al2O3、SiO2和Si3N4，维氏硬度值在3000HV以上，热稳定性好，能为基体提供良好的高温防护性能。本发明的涂层制备技术具有沉积速率高，工艺简便，易于实现，能量利用效率高，具有环境友好及能耗低等优点。
主权项：1.一种SiAlON涂层的制备方法，其特征在于，利用高能离子镀技术将SiAlON涂层制备于钢和合金基体表面，包括以下步骤：将预处理后的钢和合金基体安装在样品架上，抽真空后通入Ar，开启偏压电源进行高能离子轰击清洗，通入N2和O2调节工作压强，施加负偏压并调节占空比后，开启AlSi合金靶材电流进行沉积；采用离子镀物理气相沉积方法在基体上制备所述涂层，包括以下步骤：采用AlSi合金作为阴极靶材，将离子镀工作腔室抽真空至真空度1.0×10-2～5.0×10-3Pa，打开Ar气流量阀并通入Ar气，调节气压至0.2～0.7Pa，开启脉冲偏压电源，调节基体负偏压至700～1000V，对基体进行辉光清洗5～30min，去除表面污染物；关闭Ar，通入N2和O2，开始沉积SiAlON涂层，具体工艺参数为：AlSi合金靶弧电流60～150A，N2压强1.0～3.0Pa，O2流量10～100sccm，偏压-50～-700V，占空比20％～60％，改变沉积时间以控制涂层厚度；SiAlON涂层中，各元素原子比例为SiSi+Al＝0.05～0.5，Si+Al＝100at％；OO+N＝0.05～0.3，O+N＝100at％。
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百度查询： 河南科技学院 一种SiAlON涂层的制备方法
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