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涂布处理方法及涂布处理装置 

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申请/专利权人:株式会社斯库林集团

摘要:本发明涉及一种涂布处理方法及涂布处理装置。本发明的衬底具有上表面及下表面,在上表面形成着圆环状的凸部。衬底以水平姿势保持。对所述衬底的上表面供给涂布液。在涂布液的供给中或供给后通过使衬底绕铅直轴旋转而对整个上表面扩展涂布液。之后,通过使衬底绕铅直轴旋转而将衬底干燥。在使衬底干燥时,在第1时点到第1时点之后的第2时点之间,使衬底以第1转速旋转。另外,在第2时点到第2时点之后的第3时点之间,使衬底以高于第1转速的第2转速旋转。

主权项:1.一种涂布处理方法,其是在至少一部分具有圆形状的外周部的衬底形成涂布膜的涂布处理方法,且所述衬底具有相互面向反方向的第1面及第2面,在所述第1面,在向与所述第1面正交的方向突出且沿所述外周部延伸的圆环区域形成圆环状的凸部,所述涂布处理方法包含以下步骤:以所述第1面面向上方的方式以水平姿势保持所述衬底;对所述第1面供给涂布液,通过在涂布液的供给中或供给后使以水平姿势保持的所述衬底绕铅直轴旋转来对整个所述第1面扩展涂布液;及在扩展所述涂布液的步骤之后,通过使以水平姿势保持的所述衬底绕铅直轴旋转来使所述衬底干燥;且使所述衬底干燥的步骤包含:在第1时点到所述第1时点之后的第2时点之间,使所述衬底以第1转速旋转;及在所述第2时点到所述第2时点之后的第3时点之间,使所述衬底以高于所述第1转速且规定为具有流动性的涂布液不滞留于形成于所述凸部的内侧的落差的程度的速度的第2转速旋转;且将所述第2时点规定为在所述第1面上扩展的涂布液中,存在于所述第1面的中央区域的部分呈干燥,且存在于所述第1面的包围所述中央区域的所述圆环区域的所述凸部上的部分呈流动状态的期间内;将从所述第2时点到所述第3时点之间的期间规定为在该期间内在所述凸部上流动的涂布液成为干燥的状态。

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