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气压供给管路及CVD装置 

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申请/专利权人:盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司;盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司

摘要:本发明提供一种气压供给管路及CVD装置,包括与气源连接的总管道、分别与所述总管道连通的分支管道,所述分支管道包括与用于控制有害气体的供给的开闭装置连接的第一分支管道;在所述总管道上沿气体流动方向依次设置有总开关阀、气压调节装置和杂质去除装置;在所述第一分支管道上沿气体流动方向依次设置有异常阻断装置和分支气压检测装置。采用本发明能够调节供气的气压和净化气体,并控制第一分支管道的通断。

主权项:1.一种气压供给管路,包括与气源连接的总管道、分别与所述总管道连通的分支管道,其特征在于,所述分支管道包括与用于控制有害气体的供给的开闭装置连接的第一分支管道;在所述总管道上沿气体流动方向依次设置有总开关阀、气压调节装置和杂质去除装置;在所述第一分支管道上沿气体流动方向依次设置有异常阻断装置和分支气压检测装置。

全文数据:

权利要求:

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