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申请/专利权人：上海大学;上海大学绍兴研究院
摘要：本发明涉及一种液相输送CVD工艺制备TaC涂层系统及方法，通过改进工艺以及设计一套沉积进料系统，将液相的碳源和钽源同时导入反应腔体，在反应腔体中直接气化。避开现有工艺存在的问题，不需要载气，可精确控制溶液流量；液体直接进入反应腔中气化，无阻塞管道风险，成本低廉；工艺时间可控，无气化送粉的滞后性。该工艺制备的TaC涂层表面结构致密，无明显裂纹，界面处与基体结合紧密，稳定性高。
主权项：1.一种液相输送CVD工艺制备TaC涂层系统，其特征在于，包括溶液混合罐上端的加料口阀门、放在磁力搅拌器上的溶液混合罐、溶液混合罐外围的加热器、磁力搅拌器、与溶液混合罐、反应腔连接的微型蠕动泵、反应腔，作为钽源的TaCl5粉末和作为碳源的乙酰丙酮溶液通过加料口阀门进入溶液混合罐中，在溶液混合罐中通过加热器和磁力搅拌器进行加热、均匀搅拌，获得均匀分布的液相混合液，液相混合液通过微型蠕动泵送入反应腔进行气相反应。
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