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申请/专利权人：广州市玛澳新材料技术有限公司
摘要：本发明属于光学薄膜技术领域，具体涉及一种耐磨自清洁减反膜及其制备方法。本发明中，SiO2纳米颗粒通过表面改性修饰成疏水颗粒，然后添加有机聚合物作为粘合剂形成SiO2溶胶，并将其涂覆在玻璃基板上形成减反射涂层，疏水性SiO2纳米颗粒可以使涂层具有良好的自清洁性能，有机聚合物可以将SiO2纳米颗粒连接在一起，提高涂层的耐磨性能。这种具有高透光率、良好的机械性能和自清洁性的抗反射涂层可应用在光伏玻璃、建筑玻璃等领域。
主权项：1.一种耐磨、自清洁减反膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、疏水性SiO2纳米颗粒的合成：以正硅酸四乙酯作为硅源、无水乙醇作为溶剂、氨水作为催化剂、六甲基二氮杂烷作为疏水改性剂，通过水解聚合反应制备SiO2纳米颗粒，然后加入六甲基二氮杂烷疏水改性剂，并搅拌3-6小时，然后在室温下陈化7-14天。最后，离心分离得到疏水性SiO2纳米颗粒；S2、配制溶胶：将步骤S1获得的疏水SiO2纳米颗粒分散在异丙醇和甲基异丁基酮混合溶剂中，搅拌均匀之后加入三丙烯酸季戊四醇和羟基环己基苯基酮。并搅拌均匀，得到复合溶胶；S3、涂布：将步骤S2中获得的复合溶胶涂布在玻璃基底上，根据浸渍提拉镀膜仪的提拉速度控制涂层的厚度。涂布结束之后，将玻璃样品放在烘箱中烘干。最后，将样品置于N2吹扫室中，使O2浓度低于100ppm，用400mJcm2紫外线固化涂层。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 广州市玛澳新材料技术有限公司 一种耐磨、自清洁减反膜及其制备方法
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