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申请/专利权人：ASML控股股份有限公司
摘要：一种用于确定衬底的对准的设备和方法，其中，对对准标记进行照射的辐射源的强度是根据系统中的用于将模拟信号转换成数字信号的元件处于对所述信号进行采样的模式还是处于对所述信号进行转换并且因此对所述信号中的改变不敏感的模式而变化的，因而降低了所述衬底或系统光学部件暴露于所述照射辐射的量。
主权项：1.一种用于测量衬底上的对准标记的设备，所述设备包括：辐射源，所述辐射源适于照射所述对准标记，所述辐射源被配置成具有第一状态和第二状态，在所述第一状态下所述辐射源产生具有第一强度的辐射，在所述第二状态下所述辐射源产生具有小于所述第一强度的第二强度的辐射；检测器，所述检测器被布置成检测由所述对准标记衍射的辐射的强度并且产生指示所述强度的信号；以及转换器，所述转换器被布置成接收所述信号并且至少部分地基于所述信号来产生数字信号，所述转换器被配置成具有第一模式和第二模式，在所述第一模式下所述转换器对所述信号进行采样，在所述第二模式下所述转换器不对所述信号进行采样，所述辐射源被配置成在当所述转换器处于所述第二模式时的时间段的至少一部分内产生具有所述第二强度的辐射。
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百度查询： ASML控股股份有限公司 具有调制光源的对准传感器
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