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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：利用等离子体蚀刻设备以蚀刻高深宽比特征，该等离子体蚀刻设备可以在使低能量的反应性物质的负离子加速与使高能量的惰性气体物质的正离子加速之间交替进行。该等离子体蚀刻设备可被分成至少两个区域，其将等离子体产生空间与离子化空间分隔开。在等离子体产生空间中点燃等离子体时，可通过离子化空间中的电子附着离子化而产生反应性物质的负离子。在等离子体产生空间中等离子体熄灭时，可通过离子化空间中的潘宁离子化而产生惰性气体物质的正离子。
主权项：1.一种等离子体蚀刻设备，其包含：等离子体产生源，其中所述等离子体产生源配置成点燃或熄灭所述等离子体产生源中的稀有气体的等离子体；离子化空间，其与所述等离子体产生源耦合，其中所述离子化空间被耦合到被配置成将反应性气体和非反应性气体供应到所述离子化空间的一或多个气体源，并且其中所述离子化空间被配置成形成所述反应性气体的负离子和所述非反应性气体的正离子；第一格栅，其位于所述离子化空间与所述等离子体产生源之间；加速空间，其与所述离子化空间耦合，且被配置成将所述反应性气体的所述负离子和所述非反应性气体的所述正离子输送至所述加速空间中的衬底；第二格栅，其位于所述离子化空间与所述加速空间之间；以及衬底支撑件，其用于在所述加速空间中支撑所述衬底，其中所述衬底支撑件被配置成被正偏置或负偏置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 用于高深宽比蚀刻的等离子体蚀刻工具
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