首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

器件制备方法和半导体器件 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:张江国家实验室

摘要:本公开涉及一种器件制备方法和半导体器件。其中,器件制备方法包括:提供待处理组件,其中,所述待处理组件包括功能材料层;在所述待处理组件上方沉积共聚物材料层,其中,所述共聚物材料层包括第一聚合物和第二聚合物;基于第一聚合物和第二聚合物的微相分离形成图案化的第一聚合物层;以及至少以所述图案化的第一聚合物层为掩模,对所述功能材料层进行刻蚀,直至所述功能材料层的至少一部分形成为包含具有目标刻蚀深度的目标微结构的功能部。

主权项:1.一种器件制备方法,其特征在于,所述器件制备方法包括:提供待处理组件,其中,所述待处理组件包括功能材料层;在所述待处理组件上方沉积共聚物材料层,其中,所述共聚物材料层包括第一聚合物和第二聚合物;基于第一聚合物和第二聚合物的微相分离形成图案化的第一聚合物层;以及至少以所述图案化的第一聚合物层为掩模,对所述功能材料层进行刻蚀,直至所述功能材料层的至少一部分形成为包含具有目标刻蚀深度的目标微结构的功能部。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 张江国家实验室 器件制备方法和半导体器件

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。