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一种单行载流子光探测器及其制备方法 

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申请/专利权人:华南理工大学

摘要:本发明提供一种单行载流子光探测器及其制备方法。该单行载流子光探测器结构包括:AlN衬底;位于所述衬底上表面的第一金属焊盘、第二金属焊盘和第三金属焊盘;位于所述第一金属焊盘上表面的第一N型电极;位于所述第三金属焊盘上表面的第二N型电极;位于所述第二金属焊盘上表面的P型电极;位于所述P型电极上表面的P型接触层;位于所述P型接触层上表面的电子阻挡层;位于所述电子阻挡层上表面的收集层;位于所述收集层上表面的吸收层;位于所述吸收层、所述第一N型电极和第二N型电极上表面的N型接触层;位于所述N型接触层上表面的抗反射层;所述吸收层为p型梯度掺杂InGaN层。单行载流子光探测器具有高饱和线性输出和高响应率。

主权项:1.一种单行载流子光探测器,其特征在于,所述单行载流子光探测器结构包括:AlN衬底;位于所述AlN衬底上表面的第一金属焊盘、第二金属焊盘和第三金属焊盘;位于所述第一金属焊盘上表面的第一N型电极;位于所述第三金属焊盘上表面的第二N型电极;位于所述第二金属焊盘上表面的P型电极;位于所述P型电极上表面的P型接触层;位于所述P型接触层上表面的电子阻挡层;位于所述电子阻挡层上表面的收集层;位于所述收集层上表面的吸收层;位于所述吸收层、所述第一N型电极和第二N型电极上表面的N型接触层;位于所述N型接触层上表面的抗反射层;所述抗反射层为三氧化二铝层;所述吸收层为p型梯度掺杂InGaN层;所述吸收层InGaN的掺杂浓度为1×1019~5×1018cm-3;所述收集层为未掺杂GaN收集层。

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权利要求:

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