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申请/专利权人：浙江创芯集成电路有限公司
摘要：本申请实施例提供了一种晶圆清洗装置，包括晶圆清洗装置主体，其具有坡度的顶面包括至少两个盖板，每个盖板上均具有清洗槽，相邻盖板间设置第一沟槽，所述顶面上垂直于所述第一沟槽的一侧设置第二沟槽，所述第一沟槽与第二沟槽相连，所述第二沟槽较低的一侧设置排液口；进水管，设置在所述晶圆清洗装置的主体顶面相对第二沟槽的一侧，一端为封闭端，另一端为进水端；支管，一端与所述进水管的中间部分连通；喷头，安装在所述支管的另一端。本申请实施例提供的晶圆清洗装置通过进水管、支管和喷头向所述晶圆清洗装置顶面喷洒清洁用水的方法，避免了顶面上的清洗液结晶，进一步避免了积水漏液报警以及因结晶刮伤导致晶圆报废。
主权项：1.一种晶圆清洗装置，用于清洗化学机械研磨设备研磨后的晶圆，其特征在于，包括：晶圆清洗装置主体，其具有坡度的顶面包括至少两个盖板，每个盖板上均具有清洗槽，相邻盖板间设置第一沟槽，所述顶面上垂直于所述第一沟槽的一侧设置第二沟槽，所述第一沟槽与第二沟槽相连，所述第二沟槽较低的一侧设置排液口；进水管，设置在所述晶圆清洗装置的主体顶面相对第二沟槽的一侧，一端为封闭端，另一端为进水端；支管，一端与所述进水管的中间部分连通；喷头，安装在所述支管的另一端。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江创芯集成电路有限公司 一种晶圆清洗装置
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