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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：提供一种用于防止副产物的附着的静电卡盘、支承台及等离子体处理装置。提供一种用于对基板及边缘环进行支承的静电卡盘，包括：第一区域，具有第一上表面，并且被构成为对被放置在所述第一上表面上的基板进行保持；第二区域，具有第二上表面，以包围所述第一区域的方式在周向上延伸，并且被构成为对被放置在该第二上表面上的边缘环进行支承；电极，设置在所述第二区域；以及具有伸缩性的部件，其中，所述第一上表面和所述第二上表面沿着单一的平坦面延伸，在所述第一区域与所述第二区域之间提供将所述第一上表面与所述第二上表面彼此分离的空间，所述具有伸缩性的部件布置在所述边缘环的容纳在所述空间内的部分与所述静电卡盘之间。
主权项：1.一种用于对基板及具有第一部分和第二部分的边缘环进行支承的静电卡盘，包括：第一区域，具有第一上表面，并且被构成为对被放置在所述第一上表面上的基板进行保持；第二区域，具有第二上表面，以包围所述第一区域的方式在周向上延伸，并且被构成为对被放置在该第二上表面上的边缘环进行支承，所述第二区域和所述第一区域由相同的介电质材料形成，所述边缘环的所述第二部分位于所述第二上表面上；电极，设置在所述第二区域；以及具有伸缩性的片状部件，其中，所述第一上表面和所述第二上表面沿着单一的平坦面延伸，在所述第一区域与所述第二区域之间提供将所述第一上表面与所述第二上表面彼此分离的槽，所述边缘环的所述第一部分以使所述第一部分的上表面低于所述第二部分的下表面的方式容纳在所述槽内，所述第一部分与所述第二部分通过环形形状的垂直壁连接，所述具有伸缩性的片状部件布置在所述边缘环的所述第一部分与所述静电卡盘之间。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 静电卡盘、支承台及等离子体处理装置
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