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一种SiC MOSFET器件 

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申请/专利权人:国网福建省电力有限公司电力科学研究院;国网福建省电力有限公司;南京南瑞半导体有限公司

摘要:本发明涉及一种SiCMOSFET器件,通过在SiCMOSFET中引入集成肖特基二极管区域及双极型电流增强区域,可有效降低器件反向导通时的开启电压,并同时增强器件反向导通高密度双极型电流的浪涌能力。本发明的器件结构和制备简单,与传统SiCMOSFET制备工艺兼容,可实现高性能、批量化的SiCMOSFET器件生产。

主权项:1.一种SiCMOSFET器件,其特征在于,包括:第一掺杂类型的重掺杂的衬底;第一掺杂类型的轻掺杂的第一外延层,位于所述衬底的上表面;第二掺杂类型的阱区,位于所述第一外延层中;第一掺杂类型的源区,位于所述阱区中;第二掺杂类型的接触区,位于所述阱区中;栅介质层,位于所述外延层的上表面;第一掺杂类型的多晶硅层,位于所述栅介质层的上表面;源极欧姆接触层,位于所述第一掺杂类型的源区和第二掺杂类型的接触区的上表面;肖特基接触层,位于所述外延层上表面;漏极欧姆接触层,位于所述衬底的下表面;双极型电流增强区域,位于所述外延层中、相邻两个接触区之间;双极型电流增强区域接触层,位于双极型电流增强区域上表面。

全文数据:

权利要求:

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