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申请/专利权人：武汉海斯普林科技发展有限公司;武汉华鸣新能源有限公司
摘要：本发明公开了Spiro‑OMeTAD的光催化合成方法及应用，所述合成方法步骤包括：将2,2',7,7'‑四溴‑9,9’‑螺二芴、4,4'‑二甲氧基二苯胺、碱金属醇盐、光敏催化剂、配体投入有机溶剂中溶解并搅拌均匀；向步骤a的溶液体系施加光照1～48h，再经后处理得到Spiro‑OMeTAD；所述光照波长为400～780nm，强度为1000～30000Lux。所述光催化合成方法可提高产物纯度和产率，且在光催化反应过程中能同步氧化Spiro‑OMeTAD分子形成无锂盐掺杂、高导电性的Spiro‑OMeTAD氧化态分子，可有效避免因锂盐吸湿以及离子迁移对相应光电器件性能的影响，加快Spiro‑OMeTAD分子的应用进程。
主权项：1.Spiro-OMeTAD的光催化合成方法，其特征在于，步骤包括：a将2,2',7,7'-四溴-9,9’-螺二芴、4,4'-二甲氧基二苯胺、碱金属醇盐、光敏催化剂、配体投入有机溶剂中溶解并搅拌均匀；b向步骤a的溶液体系施加光照1～48h，再经后处理得到Spiro-OMeTAD；所述光照波长为400～780nm，强度为1000～30000Lux。
全文数据：
权利要求：
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