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申请/专利权人:浙江驰拓科技有限公司
摘要:本发明公开了一种涉及磁性存储器领域,特别是涉及一种磁补偿MTJ器件及其制造方法、MRAM设备,包括依次层叠设置的MTJ单元、隔离层及磁补偿层;所述MTJ单元包括层叠设置的自由层、势垒层及SAF固定层;在预设温度范围内的相同温度下,所述SAF固定层对应的SAF固定层净余磁化强度,与所述磁补偿层对应的磁补偿层净余磁化强度的比值不超过第一给定范围,且所述磁补偿层净余磁化强度与所述SAF固定层净余磁化强度的方向相反;所述磁补偿层的磁翻转场大于所述自由层的磁翻转场。本发明使得在自由层对应位置磁补偿层产生的漏磁场与固定层产生的漏磁场在一定范围内的相同温度下相互抵消,保证了MTJ器件数据保持能力的平衡性。
主权项:1.一种磁补偿MTJ器件,其特征在于,包括依次层叠设置的MTJ单元、隔离层及磁补偿层;所述MTJ单元包括层叠设置的自由层、势垒层及SAF固定层;在预设温度范围内的相同温度下,所述SAF固定层对应的SAF固定层净余磁化强度,与所述磁补偿层对应的磁补偿层净余磁化强度的比值不超过第一给定范围,且所述磁补偿层净余磁化强度与所述SAF固定层净余磁化强度的方向相反;所述磁补偿层的磁翻转场大于所述自由层的磁翻转场。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 浙江驰拓科技有限公司 一种磁补偿MTJ器件及其制造方法、MRAM设备
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