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申请/专利权人：浙江大学杭州国际科创中心
摘要：本发明公开了一种基于可控多点阵灰度刻写的双光子高通量直写装置和方法，该装置通过对微透镜阵列和数字微镜阵列的协同调控得到强度均一的焦点阵列，还通过像旋模块控制并行直写光斑阵列的旋向角度，通过控制旋向角度和刻线间距实现高精度的灰度刻写。该方法能够根据实际的灰度刻写需求调整设备的刻写策略，且刻写曝光过程位移台仅需保持匀速扫描，节省了平台重复加减速的时间，同时充分利用了飞秒激光光斑的入瞳能量，使得该方法兼具高通量大面积与2.5D高精度灰度刻写的优势，具有广阔的应用前景。
主权项：1.一种基于可控多点阵灰度刻写的双光子高通量直写装置，其特征在于，按照光前进的方向包括飞秒激光器、扩束器、角色散补偿模块、数字微镜阵列、第二4F系统、微透镜阵列、第五透镜、像旋模块、第一二向色镜和物镜；其中，所述微透镜阵列对来自数字微镜阵列的各单元光斑进行聚焦形成焦点阵列，所述焦点阵列通过第五透镜以形成不同角度传输的平行光，以便在双光子光刻胶上形成并行直写光斑阵列；所述像旋模块用于改变所述平行光的传输方向，以便控制并行直写光斑阵列的旋向角度。
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权利要求：
百度查询： 浙江大学杭州国际科创中心 一种基于可控多点阵灰度刻写的双光子高通量直写装置和方法
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