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申请/专利权人：西安奕斯伟材料科技股份有限公司
摘要：本公开提供一种外延生长装置及方法、计算机可读介质，该装置包括：反应腔室，设有第一进气口和出气口；刻蚀气体供应单元，刻蚀气体供应单元与第一进气口连通；基座，设于反应腔室内，基座的顶部设有用于承载晶圆的凹槽，凹槽的槽底有排放口，凹槽的侧壁设感应器件，感应器件用于获取表征凹槽的槽底表面沉积物存在状态的感应信号；动力单元，提供从排放口排出沉积物的动力；控制单元，用于当接收到来自感应器件的第一感应信号时，控制刻蚀气体供应单元向凹槽内供应刻蚀气体，且控制动力单元向排放口提供动力，第一感应信号为表征凹槽的槽底表面沉积物沉积量达到阈值的信号。本公开提供的外延生长装置及方法、计算机可读介质可提高外延片品质。
主权项：1.一种外延生长装置，其特征在于，包括：反应腔室，所述反应腔室上设有第一进气口和出气口；刻蚀气体供应单元，所述刻蚀气体供应单元与所述第一进气口连通，用于向所述反应腔室内供应刻蚀气体；基座，所述基座设于所述反应腔室内，所述基座的顶部设有用于承载晶圆的凹槽，所述凹槽的槽底被构造为设有用于将所述槽底表面沉积物排走的排放口；所述凹槽的侧壁上设有感应器件，所述感应器件用于获取表征所述凹槽的槽底表面沉积物存在状态的感应信号；动力单元，所述动力单元与所述排放口连通，所述动力单元用于提供从所述排放口排出所述沉积物的动力；及控制单元，所述控制单元与所述感应器件、所述刻蚀气体供应单元和所述动力驱动单元分别电连接，所述控制单元用于当接收到来自所述感应器件的第一感应信号时，控制所述刻蚀气体供应单元向所述凹槽内供应刻蚀气体，且控制所述动力单元为所述排放口提供动力，其中所述第一感应信号为表征所述凹槽的槽底表面沉积物沉积量达到阈值的信号。
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