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一种直接在硅衬底上生长石墨烯的方法 

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申请/专利权人:中国科学院重庆绿色智能技术研究院

摘要:本发明公开了一种直接在硅衬底上生长石墨烯的方法,属于材料制备技术领域。具体步骤包括:首先将硅片放置在刚玉板上,然后在气流上游的位置放置金属催化剂,将放置好金属催化剂和样品的石英套管放入管式炉中部位置,通入保护性气体和甲烷,利用金属催化剂远程催化帮助碳源裂解,使得裂解后的碳前驱体跟随载气到达目标衬底上方,直接在硅衬底上形核生长。本发明可以避免金属催化剂掺杂、省去金属催化剂刻蚀去除等步骤,简化工艺,减少缺陷产生;同时通过压力、气氛分压、气体流量、金属催化剂种类、金属催化剂位置的调节,可以在硅衬底上可控生长出不同尺寸、不同形貌、不同厚度的石墨烯,满足不同领域的需求。

主权项:1.一种直接在硅衬底上生长石墨烯的方法,其特征在于,包括以下步骤:将清洗后的硅衬底与金属催化剂以1-106:1的质量比置于900-1400℃、0.001-1atm下催化反应0.1-100h,随后降至室温,得到石墨烯薄膜。

全文数据:

权利要求:

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