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等离子炬操作方法 

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申请/专利权人:依赛彼集团公司

摘要:一种使用等离子炬的方法,其包括通过等离子炬的等离子气体流动通道输送等离子气体,同时电离等离子气体以产生在电极和工件之间延伸的等离子电弧。此外,屏蔽流体在第一压力下通过屏蔽流动通道进行输送。当屏蔽流体在第一压力下通过屏蔽流动通道输送时,启动使用等离子电弧在工件中产生穿孔的刺穿操作。在进行刺穿操作一段时间后,屏蔽流体在高于第一压力的第二压力下被输送到屏蔽流动通道。在刺穿操作之后,执行在工件中形成切口的切割操作,该切口起始于穿孔的边界并远离该边界延伸。

主权项:1.一种使用等离子炬刺穿和切割工件的方法,所述等离子炬包括电极、喷嘴和屏蔽件,所述喷嘴与所述电极的远端部分间隔开并围绕所述电极的远端部分以形成等离子气体流动通道,所述屏蔽件与所述喷嘴的远端部分间隔开并围绕所述喷嘴的远端部分以形成屏蔽流动通道,所述方法包括:通过所述等离子气体流动通道输送等离子气体,同时电离所述等离子气体以产生在所述电极和所述工件之间延伸的等离子电弧;在第一压力下通过所述屏蔽流动通道输送屏蔽流体;当所述屏蔽流体在所述第一压力下通过所述屏蔽流动通道输送时,启动刺穿操作以使用所述等离子电弧在所述工件中产生穿孔;在进行所述刺穿操作一段时间后,在高于所述第一压力的第二压力下将所述屏蔽流体输送到所述屏蔽流动通道;以及在所述刺穿操作之后,执行在所述工件中形成切口的切割操作,所述切口起始于所述穿孔的边界并远离所述穿孔的边界延伸。

全文数据:

权利要求:

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