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申请/专利权人：世界先进积体电路股份有限公司
摘要：本发明提供了一种光学结构及其形成方法，该方法包括：提供一基板，其中该基板包括一下包覆层以及设置于该下包覆层上的一光通道材料层；对该光通道材料层进行至少一局部氧化工艺以形成嵌入该光通道材料层的多个氧化部件；以及进行一图案化工艺以将该光通道材料层图案化为一光通道层，且在该光通道层的顶部具有一弧面，其中该下包覆层的一介电常数小于该光通道层的一介电常数。
主权项：1.一种光学结构的形成方法，其特征在于，包括：提供一基板，其中该基板包括一下包覆层以及设置于该下包覆层上的一光通道材料层；对该光通道材料层进行至少一局部氧化工艺以形成嵌入该光通道材料层的多个氧化部件；以及进行一图案化工艺以将该光通道材料层图案化为一光通道层，且在该光通道层的顶部具有一弧面；其中该下包覆层的一介电常数小于该光通道层的一介电常数。
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权利要求：
百度查询： 世界先进积体电路股份有限公司 光学结构及其形成方法
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