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申请/专利权人：苏州云达诣能源科技有限公司
摘要：本发明公开一种单组份硅片清洗剂，由按质量百分比计的以下组分组成：氢氧化钠2～5％；阳离子表面活性剂为1～3％；单宁酸为2～5％；络合剂为1～4％；分散剂为1～2％；槲皮素为0.5～2％；余量为水。本发明还公开了上述清洗剂的制备方法和在对硅片清洗中的应用。本发明的清洗剂能够使硅片清洗快速且平稳，同时由于有一些较强的分散剂、络合剂，能够有效的解决一些大尺寸硅片清洗困难的问题，使硅片的洁净度提高以及可以吸附大量的金属杂质的残留。硅片清洗中加入本发明的清洗剂，能够有效快速去除硅片表面切割液的残留，使反应形成的水包油结构更加快速的离开界面，降低了化学品的使用量，对电池后到工艺形成了正向收益。
主权项：1.一种单组份硅片清洗剂，其特征在于，由按质量百分比计的以下组分组成：氢氧化钠2～5％；阳离子表面活性剂为1～3％；单宁酸为2～5％；络合剂为1～4％；分散剂为1～2％；槲皮素为0.5～2％；余量为水。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州云达诣能源科技有限公司 一种单组份硅片清洗剂、制备方法和应用
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