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一种基于石墨烯/全氟酞菁铜的突触晶体管及其制备方法 

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申请/专利权人:南开大学深圳研究院;南开大学

摘要:本发明为一种基于石墨烯全氟酞菁铜的突触晶体管及其制备方法。该突触晶体管的结构自下而上分别为衬底、功能层、源漏电极和离子胶栅介电层;所述功能层为石墨烯全氟酞菁铜薄膜,厚度为2.5~25nm;其中,石墨烯薄膜厚度为0.5~5nm,全氟酞菁铜薄膜厚度为2~20nm。本发明制备的石墨烯全氟酞菁铜突触晶体管,通过切换栅极施加的突触前脉冲刺激的正负极性,改变沟道中传输的载流子类型电子或空穴,可以实现短程长程可塑性的快速切换。

主权项:1.一种基于石墨烯全氟酞菁铜的突触晶体管,其特征为该突触晶体管的结构自下而上分别为衬底、功能层、源漏电极和离子胶栅介电层;其中,衬底为玻璃、SiSiO2、PEN或PET衬底;所述功能层为石墨烯全氟酞菁铜薄膜,厚度为2.5~25nm;其中,石墨烯薄膜厚度为0.5~5nm;所述源漏电极为蒸镀的金属电极,金属为金、铜或银,厚度为40~80nm;所述离子胶栅介电层的材质为[PVDF-HFP][EMIM-TFSI],厚度为100~500μm。

全文数据:

权利要求:

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