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申请/专利权人：SK新技术株式会社;爱思开高新信息电子材料株式会社
摘要：本发明涉及一种聚乙烯微孔膜、制备所述微孔膜的方法以及包括所述微孔膜的隔膜。根据一个实施方案，提供一种聚乙烯微孔膜，所述聚乙烯微孔膜的厚度为3‑30μm，穿刺强度为0.15Nμm以上，在121℃下放置1小时后测量的横向收缩率为5％以下，由下式1表示的PS指数为110以上。[式1]PS指数＝[透气度×10‑5达西×孔隙率％]÷[在121℃下的横向收缩率％]。
主权项：1.一种聚乙烯微孔膜，所述聚乙烯微孔膜的厚度为3-30μm，穿刺强度为0.15Nμm以上，在121℃下放置1小时后测量的横向收缩率为5％以下，由下式1表示的PS指数为110以上，[式1]PS指数＝[透气度×孔隙率]÷[在121℃下的横向收缩率]在所述式1中，透气度的单位是×10-5达西，孔隙率的单位是％，在121℃下的横向收缩率的单位是％。
全文数据：
权利要求：
百度查询： SK新技术株式会社 爱思开高新信息电子材料株式会社 聚乙烯微孔膜、制备所述微孔膜的方法以及包括所述微孔膜的隔膜
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