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一种LVDT线圈结构 

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申请/专利权人:四川永星电子有限公司

摘要:本发明公开了一种LVDT线圈结构,包括绕线管和同轴套设在绕线管外部的绕线骨架,绕线管两端同轴且对称设置绝缘体,绝缘体内壁与绕线管外壁连接,外壁与绕线骨架连接,绕线骨架、绕线管与绝缘体形成环形空腔,绕线管位于环形空腔的外壁上绕制初级线圈,初级线圈以绕线管轴向中心对称分布,且绕制线圈匝数由外向内阶梯递减,绕线骨架外表面绕制次级线圈,绕线骨架作为绝缘层,可以阻止磁力线直接通过初级线圈到达次级线圈,可以有效的减少磁路的饱和现象,同时增加初级两端非线性区域的线圈匝数,会让传感器两端非线性区域的磁场强度增加,进而增加次级线圈的磁通量,增大传感器非线性区域的磁感应电动势,实现LVDT传感器的线性范围的增大。

主权项:1.一种LVDT线圈结构,其特征在于,包括绕线管和同轴套设在绕线管外部的绕线骨架,所述绕线管两端同轴且对称设置绝缘体,所述绝缘体内壁与绕线管外壁连接,所述绝缘体外壁与绕线骨架连接,所述绕线骨架、绕线管与绝缘体形成环形空腔,所述绕线管位于环形空腔的外壁上绕制初级线圈,所述初级线圈以绕线管轴向中心对称分布,且绕制线圈匝数由外向内阶梯递减,所述绕线骨架外表面绕制次级线圈,所述环形空腔沿着绕线管轴线方向两端对称设置线性端盖,所述线性端盖同轴套接在绕线管上。

全文数据:

权利要求:

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