买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

申请/专利权人：长沙韶光芯材科技有限公司;韶光芯材(浏阳)科技有限公司

摘要：本发明涉及薄膜材料技术领域，提供了一种图形化良好附着力的高反射层及其制备方法和应用，所述高反射层包括自下而上依次位于表面改性玻璃衬底上的nSiW层、梯度W‑Cr合金层、Cr层、二氧化硅层、图形化反射层；nSiW层由Si层和W层交替沉积n个周期组成，其中交替周期n为30~50；梯度W‑Cr合金层自远离nSiW层的方向上W含量逐渐减少，Cr含量逐渐增加；本发明高反射层实现了高反射性能与良好附着力的结合，解决了传统高反射层易剥落、稳定性差等问题，该高反射层在光刻掩膜版、光学系统和半导体制造等领域具有广泛的应用价值，为高性能光学元件的发展提供了新的技术路径。

主权项：1.一种图形化良好附着力的高反射层，其特征在于，所述高反射层包括自下而上依次位于表面改性玻璃衬底上的nSiW层、梯度W-Cr合金层、Cr层、二氧化硅层、图形化反射层；所述nSiW层由Si层和W层交替沉积n个周期组成，其中交替周期n为30~50；所述nSiW层最下层为Si层且与表面改性玻璃衬底连接，最上层为W层；所述Si层的厚度为3~8nm，W层的厚度为3~8nm，Si层与W层的厚度比为1:1；所述Si层和W层之间的界面为波浪状界面；所述梯度W-Cr合金层自远离nSiW层的方向上W含量逐渐减少，Cr含量逐渐增加；所述表面改性玻璃衬底为氧气等离子体表面改性玻璃衬底；所述氧气等离子体表面改性玻璃衬底的平均表面粗糙度为0.15~0.45nm；所述氧气等离子体表面改性玻璃衬底的方法包括以下步骤：1）玻璃衬底预处理：将玻璃衬底使用超声波清洗机依次在丙酮和异丙醇中清洗，然后在室温真空干燥箱中干燥完全；2）玻璃衬底表面改性：将经步骤1）处理得到的玻璃衬底采用氧气等离子体表面改性；所述氧气等离子体表面改性的工艺参数为：在压力为1.0~2.0Pa下，在流量为50~80sccm的氩气和氧气混合气氛中，其中氩气和氧气的体积比为1：4，溅射功率为70~80W，溅射时间为250~350s。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 长沙韶光芯材科技有限公司 韶光芯材(浏阳)科技有限公司 一种图形化良好附着力的高反射层及其制备方法和应用