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申请/专利权人:芜湖长信科技股份有限公司
摘要:本发明提供一种增加Incell静电消散稳定性的ATO膜层制备方法,包括以下步骤:步骤一、对TFT白玻样片进行真空溅射镀膜,镀膜新ATO膜层;步骤二、对玻璃基板进行膜层特性以及阻值稳定性测试;步骤三、阻值稳定以及经时性测试通过后试做玻璃基板再确认静电消散能力;步骤四、镀膜完成后进行表观检验和装箱入库。本发明的新ATO膜层在基础膜层特性与普通ATO膜层保持一致的同时,可显著提升膜层硬度、膜层经时性和膜层阻值稳定性,膜层性能更好。
主权项:1.一种增加Incell静电消散稳定性的ATO膜层制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一、对TFT白玻样片进行真空溅射镀膜,镀膜新ATO膜层;步骤二、对玻璃基板进行膜层特性以及阻值稳定性测试;步骤三、阻值稳定以及经时性测试通过后试做玻璃基板再确认静电消散能力;步骤四、镀膜完成后进行表观检验和装箱入库。
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