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用于基板处理腔室中的电感耦合和电容耦合等离子体的射频源 

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申请/专利权人:应用材料公司

摘要:射频RF源可用于生成电容耦合等离子体以在等离子体处理腔室中对基板执行基于等离子体的处理。控制器可以使RF源和开关元件将RF信号路由到底座中的电极,这些电极在处理腔室中生成等离子体,作为在蚀刻或沉积过程中对基板执行的配方的一部分。在工艺之间,控制器可以使相同的RF源生成第二RF信号,替代地,所述第二RF信号由开关元件路由到感应线圈以生成电感耦合等离子体,用于清洁工艺以去除等离子体处理腔室内部的薄膜沉积物。

主权项:1.一种系统,包括:等离子体处理腔室;射频RF源;以及控制器,所述控制器被配置为执行操作,包括:接收要在等离子体处理腔室中对基板执行等离子体处理的指示;使所述RF源生成第一RF信号,所述第一RF信号被配置为在对所述基板执行所述等离子体处理期间在所述等离子体处理腔室中生成电容耦合等离子体;接收要在所述等离子体处理腔室中执行清洁处理的指示;以及使所述RF源生成第二RF信号,所述第二RF信号被配置为在所述清洁处理期间在所述等离子体处理腔室中生成电感耦合等离子体。

全文数据:

权利要求:

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