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摘要：一种包括物理气相沉积机器和阻塞装置的机组。物理气相沉积机器包括真空容器、离子束枪、以及支撑构件。支撑构件包括至少一个孔，该至少一个孔旨在接纳基材，该基材的形状明显地与该至少一个孔的形状相符。离子束枪被配置成产生朝向支撑构件的离子束。阻塞装置被配置成当基材放置在该至少一个孔中并且阻塞装置放置在基材上时阻塞该至少一个孔与基材之间的间隙。
主权项：1.一种包括物理气相沉积机器10和阻塞装置33的机组，所述物理气相沉积机器10包括真空容器12、离子束枪19、以及支撑构件16，所述支撑构件16包括至少一个孔，所述至少一个孔旨在接纳基材17，所述基材17的形状明显地与所述至少一个孔的形状相符，所述离子束枪19被配置成产生朝向所述支撑构件16的离子束，所述阻塞装置33被配置成当所述基材17放置在所述至少一个孔中并且所述阻塞装置33放置在所述基材17上时阻塞所述至少一个孔与所述基材之间的间隙32，所述阻塞装置33包括形成封闭腔室的外壳，所述外壳由柔软且可变形的材料制成，所述封闭腔室填充有硬质元件。
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百度查询： 依视路国际公司 包括物理气相沉积机器和阻塞装置的机组、用于涂覆的方法和阻塞装置
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