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申请/专利权人：株式会社国际电气
摘要：本发明涉及气化装置、衬底处理装置、清洁方法及半导体器件的制造方法。提供能够使气化气体的供给流量稳定化的技术。气化装置具有：液体容器，其贮存液体原料；第1加热部，其浸渍在贮存于液体容器的液体原料中，对液体原料进行加热；第2加热部，其对液体容器进行加热；第1温度传感器，其浸渍在贮存于液体容器的液体原料内，对液体原料的温度进行测定；第2温度传感器，其对液体容器的温度进行测定；以及控制部，其构成为能够基于由第1温度传感器测定的液体原料的温度对第1加热部进行控制，并基于由第2温度传感器测定的温度对第2加热部进行控制。
主权项：1.气化装置，其具有：液体容器，其贮存液体原料；第1加热部，其浸渍在贮存于所述液体容器的所述液体原料中，对所述液体原料进行加热；第2加热部，其对所述液体容器进行加热；第1温度传感器，其浸渍在贮存于所述液体容器的所述液体原料中，对所述液体原料的温度进行测定；第2温度传感器，其对所述液体容器的温度进行测定；以及控制部，其构成为能够基于由所述第1温度传感器测定的所述液体原料的温度以使由所述第1温度传感器测定的温度达到规定的第1温度的方式对所述第1加热部进行控制，并基于由所述第2温度传感器测定的所述液体容器的温度以使由所述第2温度传感器测定的温度达到规定的第2温度的方式对所述第2加热部进行控制，所述第2温度高于所述第1温度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社国际电气 气化装置、衬底处理装置、清洁方法及半导体器件的制造方法
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