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申请/专利权人:陕西科技大学
摘要:本发明涉及表面处理技术领域,具体为一种高活性氧化铈基纳米磨粒及其制备方法和应用,本发明提供的氧化铈基纳米磨粒的制备方法,选用Ce3+为原料,Y3+为掺杂元素,采用熔盐法合成出球形形貌,尺寸可控,粒度分布均匀,高活性的氧化铈基纳米磨粒,克服了氧化铈团聚的技术难关,成功合成了立方萤石结构的氧化铈基纳米磨粒,粒径80~120nm,粒径分布均匀,然后基于本发明的特定尺寸氧化铈基纳米磨粒,调节pH值为6,固含量为0.5wt%,配制的抛光液,应用于光催化辅助化学机械抛光中对石英玻璃进行表面加工处理,材料去除率达到了546.59nmmin,获得了高的材料去除率。
主权项:1.一种高活性氧化铈基纳米磨粒在光催化辅助化学机械抛光中的应用,其特征在于,高活性氧化铈基纳米磨粒的制备方法包括以下步骤:步骤一、按照铈源与六水合硝酸钇的摩尔比为1:0.01~0.2,铈源与六水合硝酸钇之和与熔盐的摩尔比为1:5~20取原料并将其分开研磨,然后均匀分散在无水乙醇中,磁力搅拌30min,再进行干燥处理,得到的混合盐;步骤二、将步骤一得到的混合盐置入马弗炉中进行焙烧处理,从室温以2~5℃min的速率升温至500℃~800℃,保温2~4h后,进行降温程序,以2~5℃min速率降温至400℃,再使其自然冷却到室温,将反应后的产物洗涤得到氧化铈基纳米磨粒,磨粒尺寸为80~120nm。
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权利要求:
百度查询: 陕西科技大学 一种高活性氧化铈基纳米磨粒及其制备方法和应用
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