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申请/专利权人：极电光能有限公司
摘要：本申请公开了一种复合膜层的连续镀膜装置，该连续镀膜装置包括气相输运装置、基片预热装置和原子层沉积装置，气相输运装置包含有第一蒸气供应模组和气相沉积室；基片预热装置包含基片预热室和加热模组，基片预热室连通于气相沉积室的出料端；原子层沉积装置包括第二蒸气供应模组和原子沉积室，原子沉积室连通于基片预热室的出料端；气相沉积室、基片预热室和原子沉积室内均设置有用于传送基片的传送装置和用于抽真空的真空装置；气相沉积室、基片预热室和原子沉积室之间分别设置有阀门，基片通过若干传送装置在真空环境状态下依次通过气相沉积室、基片预热室和原子沉积室。由此，可以降低设备成本和消除膜层表面污染的可能性。
主权项：1.一种复合膜层的连续镀膜装置，其特征在于，包括：气相输运装置，所述气相输运装置包含有第一蒸气供应模组和气相沉积室，所述第一蒸气供应模组向所述气相沉积室供应第一源材料蒸气；基片预热装置，所述基片预热装置包含基片预热室和加热模组，所述基片预热室连通于所述气相沉积室的出料端，所述加热模组用于加热基片；原子层沉积装置，所述原子层沉积装置包括第二蒸气供应模组和原子沉积室，所述原子沉积室连通于所述基片预热室的出料端，所述第二蒸气供应模组向所述原子沉积室供应第二源材料蒸气；所述气相沉积室、所述基片预热室和所述原子沉积室内均设置有用于传送基片的传送装置和用于抽真空的真空装置；所述气相沉积室、所述基片预热室和所述原子沉积室之间分别设置有阀门，所述基片通过若干所述传送装置在真空环境状态下依次通过所述气相沉积室、所述基片预热室和所述原子沉积室。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 极电光能有限公司 复合膜层的连续镀膜装置
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