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摘要：本发明公开了用于制备融合状塔基的单晶硅碱抛添加剂及其使用方法，按重量百分比，包括有以下组分：促进剂0.1％～3.0％，脱泡剂0.05～1.0％，缓蚀剂0.1～2.0％，表面活性剂0.05～0.5％，余量为去离子水。本发明添加剂应用于碱抛工艺中可以获得具有“融合状”结构的塔基，相比于传统的酸抛光工艺，减少了环境污染，同时该添加剂在碱抛光过程中可以提高硅片背面抛光效果，提高硅片背面平整度，增强了背面钝化效果，可以得到更高的反射率和更大的塔基，进而提升效率。
主权项：1.用于制备融合状塔基的单晶硅碱抛添加剂，其特征在于，由以下百分比的原料组成：促进剂0.1％～3.0％，脱泡剂0.05％～1.0％，缓蚀剂0.1％～3.0％，表面活性剂0.05％～0.5％，余量为去离子水。
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百度查询： 浙江纪堂科技有限公司 用于制备融合状塔基的单晶硅碱抛添加剂及其使用方法
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