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用于放置超临界处理用基板的容器、基板处理装置及处理方法 

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摘要:本申请实施例涉及一种用于放置超临界处理用基板的容器、基于超临界流体的基板处理装置及基板处理方法。其中,用于放置超临界处理用基板的容器用于在超临界处理装置超临界干燥和转移所述基板的过程中存放基板,容器内部具有放置基板的内腔,在转移和超临界干燥基板过程中,基板放置于内腔以使得基板与容器外部环境相隔离;容器设有供超临界流体出入内腔的流道。本申请实施例所提供的用于放置超临界处理用基板的容器及基于超临界流体的基板处理装置能够避免基板直接暴露在高压处理空间内,进一步避免在腔室打开和关闭过程中产生的颗粒对基板造成二次污染,保证基板表面洁净度。

主权项:1.一种基于超临界流体的基板处理装置,其特征在于,容器,所述容器用于在超临界处理装置超临界干燥和转移所述基板的过程中存放所述基板,所述容器内部具有放置所述基板的内腔,在转移和超临界干燥所述基板过程中,所述基板放置于所述内腔,以使得所述基板与所述容器外部环境相隔离;所述容器包括可盖合的上盖和底座,所述容器设有供超临界流体出入所述内腔的流道,所述流道具有流入口与排出口,所述流入口与所述排出口分别位于所述容器的两侧;腔室,其具有容纳所述容器的处理空间,在所述处理空间内通过超临界流体处理放置于所述容器内的所述基板表面的污染物;供排单元,其用于向所述处理空间供应超临界流体和将溶解有污染物的超临界流体排出到腔室外;动作单元,用于转移所述容器;导流组件,其位于所述处理空间内,通过所述导流组件调节所述处理空间内超临界流体的流向,以使得通入所述处理空间内的超临界流体通过所述流道进入所述容器的所述内腔。

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百度查询: 江苏芯梦半导体设备有限公司 用于放置超临界处理用基板的容器、基板处理装置及处理方法

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