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摘要：本实用新型公开了用于地奥司明反应釜的清洗装置，涉及地奥司明生产技术领域，该装置包括底座和反应釜本体，所述反应釜本体固定安装在底座的上表面，所述反应釜本体上端的一侧设置有进料口，所述反应釜本体的下端设置有出料口并贯穿底座，所述底座的下端对称设置有支撑座，还包括清洁机构和蓄水机构，所述清洁机构设置在反应釜本体的内部，用于清洗粘附在反应釜本体内壁上的原料，所述蓄水机构设置在底座的上端，用于提高清洗效率。本实用新型设置清洁机构，在往复丝杆转动时，由于连接杆与滑槽的限制作用，使得刮环能够进行上下往复运动，起到搅拌作用，也能对附着在反应釜内壁表面的物料进行清洁，对反应釜侧壁和上下两端的内壁进行完全清理。
主权项：1.用于地奥司明反应釜的清洗装置，包括底座101和反应釜本体102，所述反应釜本体102固定安装在底座101的上表面，所述反应釜本体102上端的一侧设置有进料口103，所述反应釜本体102的下端设置有出料口104并贯穿底座101，所述底座101的下端对称设置有支撑座105；其特征在于，还包括清洁机构200，所述清洁机构200设置在反应釜本体102的内部，用于清洗粘附在反应釜本体102内壁上的原料；蓄水机构300，所述蓄水机构300设置在底座101的上端，用于提高清洗效率。
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百度查询： 成都市润德药业有限公司 用于地奥司明反应釜的清洗装置
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