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一种胶体量子点图像传感器的客制化加工方法 

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摘要:本发明公开了一种胶体量子点图像传感器的客制化加工方法,包括以下步骤:客制化前道工艺:对图像传感器进行通孔,并在所述通孔内填充金属,形成像素电极区域;对所述图像传感器刻蚀,使所述图像传感器的读出电路中需要引出的端口暴露;将所述读出电路表面磨平;客制化后道工艺:在所述像素电极表面蒸镀一层钛金,且所述钛金覆盖面积大于所述像素电极面积。本发明实施例通过客制化前道工艺和客制化后道工艺解决了标准CMOS工艺与溶液法异质集成之间不兼容的问题,实现了胶体量子点器件与读出电路的异质集成。

主权项:1.一种胶体量子点图像传感器的客制化加工方法,其特征在于,包括以下步骤:客制化前道工艺:对图像传感器进行通孔,并在所述通孔内填充金属,形成像素电极区域;对所述图像传感器刻蚀,使所述图像传感器的读出电路中需要引出的端口暴露;将所述读出电路表面磨平;客制化后道工艺:在所述像素电极区域表面蒸镀一层钛金,且所述钛金覆盖面积大于所述像素电极区域面积;其中,所述客制化前道工艺及客制化后道工艺在所述图像传感器中顶层金属的钝化层沉积完成之后进行。

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