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摘要：公开了一种系统，所述系统包括真空模块，所述真空模块包括第一真空源、第一真空传播路径、第二真空源和第二真空传播路径。第一真空源被配置为经由第一真空传播路径向吸盘提供第一真空水平的第一真空。吸盘安装在机械台上。第二真空源被配置为经由第二真空传播路径向吸盘提供第二真空水平的第二真空。第二真空水平超过第一真空水平。吸盘被配置为向晶片施加第一真空或第二真空中的至少一者。第一真空传播路径被配置为跟随吸盘的移动。第二真空传播路径被配置为不管吸盘的移动如何都保持静止。
主权项：1.一种用于将晶片固定到吸盘的系统，所述系统包括：真空模块，所述真空模块包括第一真空源、第一真空传播路径、第二真空源和第二真空传播路径；其中所述第一真空源被配置为经由所述第一真空传播路径向安装在机械台上的吸盘提供第一真空水平的第一真空；其中所述第一真空源在所述机械台外部；其中所述第二真空源被配置为经由所述第二真空传播路径向所述吸盘提供第二真空水平的第二真空；其中所述第二真空源在所述机械台外部；其中所述第二真空水平超过所述第一真空水平；其中所述吸盘被配置为向所述晶片施加所述第一真空或所述第二真空中的至少一者；并且其中所述第一真空传播路径被配置为跟随所述吸盘的移动，其中所述第二真空传播路径被配置为不管所述吸盘的所述移动如何都保持静止。
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