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申请/专利权人:反射公司
申请日:2004-07-26
公开(公告)日:2006-11-01
公开(公告)号:CN1856726A
专利技术分类:
专利摘要:公开了包括微镜器件阵列的一种空间光调制器,以及这种空间光调制器的制造方法。对应于所使用的光源确定相邻微镜器件之间的中心到中心距离和间隙,以便使光学效率和性能最高。该微镜器件包括形成在基板上的铰链支架,以及由铰链支架支撑的铰链。镜片通过触点与铰链连接,并且根据镜片所需的最大旋转角度、相邻微镜之间的最佳间隙和间距来确定镜片与铰链之间的距离。在这种空间光调制器的制造方法中,将一个牺牲层沉积到基板上,之后形成镜片,并将另一牺牲层沉积到镜片上,随后形成铰链支架。用自发气相化学蚀刻剂通过相邻反射镜器件之间的小间隙,去除两个牺牲层。此外,还公开了一种投影系统,它包括这种空间光调制器以及光源、聚光光学装置,其中光源发出的光被聚焦到微镜阵列上,还包括将微镜阵列有选择反射的光投射到靶上的投影光学装置,以及用于有选择地驱动阵列中微镜的控制器。
专利权项:1、一种方法,包括:形成第一和第二牺牲层,在第一和第二牺牲层之一上的铰链层中形成多个铰链,在第一和第二牺牲层中另一个上的镜片层中形成多个镜片;其中,将镜片形成为相邻镜片之间具有0.15到0.5微米的间隙;其中,第一和第二牺牲层之一处于镜片层与铰链层之间,且厚度为0.15到1.5微米;在第二牺牲层上为每个镜片形成铰链支架,用于支撑所述镜片;以及使用自发气相化学蚀刻剂去除第一和第二牺牲层之一或两者的至少一部分。
百度查询: 反射公司 微镜阵列中相邻微镜之间间隙得到了减小的微镜阵列
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