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一种提高LEP工艺中化镀层附着力的方法及LEP化学镀产品 

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申请/专利权人:上海安费诺永亿通讯电子有限公司

摘要:本发明公开了一种提高LEP工艺中化镀层附着力的方法,包括如下步骤:提供一基板;采用激光束对基板的表面进行连续扫描,得到第一扫描区域;采用激光束在第一扫描区域上进行点状扫描,打下相互之间具有间距的光斑,得到第二扫描区域;将第一、二扫描区域浸入金属离子溶液中,并在第一、二扫描区域上诱导镀制金属作为种子层;化学镀加厚种子层,在种子层的上层形成化镀层。本发明在现有LEP工艺的基础上,增加了一道激光处理工艺,即在第一扫描区域上采用激光按照一定间距打下圆形的光斑,通过加深的光斑圆孔增加了化镀层的接触面积,从而增加了化镀层的附着力,解决了LEP技术中一直存在的难题,将LEP技术在实际产品中得到了运用。

主权项:1.一种提高LEP工艺中化镀层附着力的方法,其特征在于,包括如下步骤:提供一基板;第一道激光处理:采用激光束对所述基板的表面进行连续扫描,得到第一扫描区域;第二道激光处理:采用激光束在所述第一扫描区域上进行点状扫描,打下相互之间具有间距的光斑,得到第二扫描区域;将所述第一扫描区域及第二扫描区域浸入金属离子溶液中,并在所述第一扫描区域及所述第二扫描区域上诱导镀制金属作为种子层;化学镀加厚所述种子层,在所述种子层上形成化镀层。

全文数据:

权利要求:

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