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申请/专利权人:中国移动通信有限公司研究院;中国移动通信集团有限公司
摘要:本申请公开了一种激光器谐振腔制备方法,涉及激光器技术领域。该方法包括:在硅衬底的外延层表面制备第一镀膜层;在所述第一镀膜层上光刻并制备第二镀膜层;进行所述第二镀膜层的剥离;进行所述第一镀膜层的刻蚀;以所述第一镀膜层和所述第二镀膜层为阻挡层,对硅衬底的外延层进行刻蚀,获取激光器谐振腔。上述方案,能够保证获取形态较好的激光器谐振腔的侧壁外表面,以此提升激光器的辐射复合率、外量子效率、电光转换效率、使用寿命等。
主权项:1.一种激光器谐振腔制备方法,其特征在于,包括:在硅衬底的外延层表面制备第一镀膜层;在所述第一镀膜层上光刻并制备第二镀膜层;进行所述第二镀膜层的剥离;进行所述第一镀膜层的刻蚀;以所述第一镀膜层和所述第二镀膜层为阻挡层,对硅衬底的外延层进行刻蚀,获取激光器谐振腔。
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权利要求:
百度查询: 中国移动通信有限公司研究院 中国移动通信集团有限公司 激光器谐振腔制备方法
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