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申请/专利权人：中国移动通信有限公司研究院;中国移动通信集团有限公司
摘要：本申请公开了一种激光器谐振腔制备方法，涉及激光器技术领域。该方法包括：在硅衬底的外延层表面制备第一镀膜层；在所述第一镀膜层上光刻并制备第二镀膜层；进行所述第二镀膜层的剥离；进行所述第一镀膜层的刻蚀；以所述第一镀膜层和所述第二镀膜层为阻挡层，对硅衬底的外延层进行刻蚀，获取激光器谐振腔。上述方案，能够保证获取形态较好的激光器谐振腔的侧壁外表面，以此提升激光器的辐射复合率、外量子效率、电光转换效率、使用寿命等。
主权项：1.一种激光器谐振腔制备方法，其特征在于，包括：在硅衬底的外延层表面制备第一镀膜层；在所述第一镀膜层上光刻并制备第二镀膜层；进行所述第二镀膜层的剥离；进行所述第一镀膜层的刻蚀；以所述第一镀膜层和所述第二镀膜层为阻挡层，对硅衬底的外延层进行刻蚀，获取激光器谐振腔。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国移动通信有限公司研究院 中国移动通信集团有限公司 激光器谐振腔制备方法
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