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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司
摘要：本发明提供了一种模具及其制备方法、转印方法，涉及显示技术领域，其中，模具包括：基底，所述基底的第一表面上设置有多个凹槽，所述凹槽用于容纳待转印的所述量子点薄膜，所述量子点薄膜由含有油溶性量子点材料的溶液固化后得到；疏油层，包括第一部分，所述第一部分设置在所述基底的第一表面上，且位于所述凹槽外。
主权项：1.一种用于转印量子点薄膜的模具，其特征在于，包括：基底，所述基底的第一表面上设置有多个凹槽，所述凹槽用于容纳待转印的所述量子点薄膜，所述量子点薄膜由含有油溶性量子点材料的溶液固化后得到；疏油层，包括第一部分，所述第一部分设置在所述基底的第一表面上，且位于所述凹槽外；所述凹槽中设置有间隔层，所述间隔层与所述量子点薄膜之间的粘附力小于所述基底与所述量子点薄膜之间的粘附力；所述疏油层还包括第二部分，所述第二部分位于所述凹槽中，且位于所述间隔层与所述凹槽的底壁之间；所述间隔层的材料包括聚二甲基硅氧烷，所述疏油层的材料包括聚四氟乙烯和纳米二氧化硅中的至少一者。
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百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 北京京东方技术开发有限公司 模具及其制备方法、转印方法
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