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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供一种在等离子体处理装置内使用的部件的形成方法，所述部件的形成方法包括一边供给第1陶瓷的原料和与该第1陶瓷不同的第2陶瓷的原料，一边对所述第1陶瓷的原料和所述第2陶瓷的原料照射能量束的工序。
主权项：1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：处理容器；生成等离子体的等离子体生成装置，所述等离子体用于在所述处理容器内在基片上进行蚀刻；和配置于等离子体处理装置内的部件，所述部件是具有边界层的部件，所述边界层是通过一边供给第1陶瓷的原料和与该第1陶瓷不同的第2陶瓷的原料，一边对所述第1陶瓷的原料和所述第2陶瓷的原料照射能量束的工序而形成的，以将所述第1陶瓷的原料与所述第2陶瓷的原料的配比连续或者阶梯地改变的方式进行供给，所述部件还包括：通过一边供给所述第1陶瓷和所述第2陶瓷的一种原料一边对所述一种原料照射能量束的工序而形成的第1层；和通过一边供给所述第1陶瓷和所述第2陶瓷的另一种原料一边对所述另一种原料照射能量束的工序而形成的第2层，所述边界层配置在所述第1层与所述第2层之间。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 部件的形成方法和等离子体处理装置
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