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一种VDMOS器件结构的三极管显示器 

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申请/专利权人:常州大学

摘要:本发明公开了一种VDMOS器件结构的三极管显示器,包括多个像素,每个像素包括三个子像素单元;驱动背板承载多个像素;所述子像素单元包括VDMOS器件,所述VDMOS器件设置在驱动背板上,且覆盖至少一个所述过孔。本发明减少了响应时间,提高了显示亮度,具有高分辨率、高亮度、高对比度和低响应时间的显示功能。

主权项:1.一种VDMOS器件结构的三极管显示器,其特征在于,包括:多个像素,每个所述像素包括三个子像素单元,包括红色子像素单元、绿色子像素单元、蓝色子像素单元;驱动背板,所述驱动背板上设有若干规则排列的过孔,所述子像素单元覆盖至少一个所述过孔;所述驱动背板承载多个像素,用于驱动所述子像素单元发光;所述子像素单元包括阳极、VDMOS器件、ITOTiN薄膜层和LED发光单元,所述阳极设置在驱动背板上,且覆盖至少一个所述过孔,所述VDMOS器件设置在阳极远离驱动背板的一侧,所述ITOTiN薄膜层包括上下堆叠设置的ITO薄膜层和TiN薄膜层,所述TiN薄膜层设置在VDMOS器件上远离驱动背板的一侧,所述ITO薄膜层设置在TiN薄膜层上远离驱动背板的一侧,所述LED发光单元设置在ITO薄膜层上远离驱动背板的一侧;所述VDMOS器件包括NPN型半导体层、SiN侧壁保护层、栅极绝缘层和栅极,所述NPN型半导体层位于阳极远离驱动背板的一侧,所述ITOTiN薄膜层设置在NPN型半导体层远离驱动背板的一侧,所述SiN侧壁保护层设置在ITOTiN薄膜层上表面四周,形成SiN槽,所述栅极绝缘层包覆在SiN侧壁保护层、ITOTiN薄膜层和NPN型半导体层的外侧壁上,所述栅极设置在栅极绝缘层的侧壁上,所述栅极绝缘层的垂直剖面为L型结构,且栅极底面与栅极绝缘层接触。

全文数据:

权利要求:

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