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一种高折射率高深宽比倾斜光栅制备方法 

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申请/专利权人:南京大学

摘要:本发明公开了一种高折射率高深宽比倾斜光栅制备方法,包括基底、有机掺杂高折胶层和UV固化压印胶层,所述有机掺杂高折胶层包括主体组分和掺杂组分,所述主体组分为烷氧基十二烷基丙稀酸脂、2‑苯氧基乙基丙烯酸酯混合物中的任一种及其组合,掺杂组分为含有硫元素的材料,包括如下步骤:S1:在基底表面依次旋涂两层胶体,由下往上分别为有机掺杂高折胶以及UV固化压印胶,形成有机掺杂高折胶层和UV固化压印胶层;S2:在UV固化压印胶层上制作直角光栅,同时形成残余层;S3:通过刻蚀工艺对UV固化压印胶层的残余层进行处理;S4:倾斜基底,以UV固化压印胶层上的直角光栅为掩膜对有机掺杂高折胶层进行刻蚀,获得高折射率高深宽比倾斜光栅。

主权项:1.一种高折射率高深宽比倾斜光栅制备方法,其特征在于:包括基底、有机掺杂高折胶层和UV固化压印胶层,所述有机掺杂高折胶层包括主体组分和掺杂组分,所述主体组分为烷氧基十二烷基丙稀酸脂、2-苯氧基乙基丙烯酸酯混合物中的任一种及其组合,掺杂组分为含有硫元素的材料,包括如下步骤:S1:在基底表面依次旋涂两层胶体,由下往上分别为有机掺杂高折胶以及UV固化压印胶,形成有机掺杂高折胶层和UV固化压印胶层;S2:在UV固化压印胶层上制作直角光栅,同时形成残余层;S3:通过刻蚀工艺对UV固化压印胶层的残余层进行处理;S4:倾斜基底,以UV固化压印胶层上的直角光栅为掩膜对有机掺杂高折胶层进行刻蚀,获得高折射率高深宽比倾斜光栅。

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