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申请/专利权人：西默有限公司
摘要：用于控制光学系统的技术包括访问从光学系统发射的脉冲光束的特定脉冲的属性的测量值，该属性与光束的相干量有关；将光束的属性的测量值与属性的目标值进行比较；基于比较确定是否生成控制信号；并且如果基于比较生成控制信号，则通过基于控制信号修改光学系统的方面来调节光束中的相干量，以减少特定脉冲之后的脉冲的相干量。
主权项：1.一种用于光源的系统，所述系统包括：光学耦合器；第一光学系统，包括第一光学元件；第二光学系统，包括第二光学元件；以及增益介质，在所述第一光学系统与所述第二光学系统之间，其中所述第一光学元件、所述第二光学元件和所述光学耦合器限定闭合路径，所述闭合路径的至少一部分穿过所述增益介质，以及所述第一光学元件和所述第二光学元件中的一个或两个光学元件包括：被定位成与在所述闭合路径上传播的脉冲光束交互的光学反射表面，所述光学反射表面包括多个部分，所述多个部分中的至少一个部分具有与其他部分的表面轮廓不同的表面轮廓。
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