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申请/专利权人：江苏集萃有机光电技术研究所有限公司

摘要：本发明涉及机械技术领域，公开了一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪。基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，包括底盘和挡板组件，底盘上设有多个用于放置基片的承载部；挡板组件设置于底盘下方，挡板组件能相对底盘运动，且挡板组件用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。本发明提供的基片蒸镀承载盘中的挡板组件可以遮挡蒸镀图形使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形，使蒸镀仪能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。

主权项：1.一种基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，其特征在于，包括：底盘，所述底盘上设有多个用于放置基片的承载部2；所述承载部2包括开设在所述底盘上的凹槽21，所述凹槽21的槽底开有蒸镀孔22，所述凹槽21用于放置所述基片；挡板组件3，设置于所述底盘下方，所述挡板组件3能相对所述底盘运动，且所述挡板组件3用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4；所述底盘包括掩膜盘12，所述掩膜盘12沿周向设置多个所述蒸镀图形4，所述挡板31设置于所述掩膜盘12下方，且所述固定件32与所述掩膜盘12固定连接，且所述挡板31用于遮挡所述蒸镀图形4；基片盘11，与所述掩膜盘12同轴设置，且所述掩膜盘12能相对所述基片盘11转动；所述挡板组件3包括挡板31和固定件32，所述挡板31与所述固定件32滑动连接，所述挡板31设有多个并沿所述底盘周向设置，且与所述承载部2一一对应，所述挡板31连接有驱动所述挡板31相对所述底盘运动的驱动组件；所述挡板31与所述底盘的底面平行且滑动连接，且所述挡板31朝向或远离所述底盘的中心运动；或，所述底盘包括基片盘11，所述承载部2设置在所述基片盘11上，所述挡板组件3设置于所述基片盘11下方，且所述挡板组件3能相对所述基片盘11运动；所述挡板组件3包括挡板31，所述挡板31设有多个并沿所述基片盘11周向设置，且与所述承载部2一一对应，所述挡板31上设置多个所述蒸镀图形4，所述挡板31相对所述基片盘11运动切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形4；所述挡板31与所述基片盘11滑动连接，且所述挡板31朝向或远离所述基片盘11的中心运动，所述挡板31沿所述挡板31的移动方向设置多个所述蒸镀图形4。

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