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一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法 

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申请/专利权人:中国矿业大学(北京)

摘要:本发明公开了一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法,所述化学机械抛光液由1‑10wt.%的磨料、0.5‑5wt.%的氧化剂、10‑150mmolL的络合剂、pH调节剂以及余量的水组成,所述络合剂为柠檬酸或柠檬酸盐。本发明的化学机械抛光液选用合适的氧化剂、络合剂种类和浓度配比,在抛光液中化学物质的化学反应和磨粒的机械磨损协同作用下,提高金属钛的材料去除速率,并获得优质光滑的表面在钴互连阻挡层钛的CMP工艺中具有广阔的应用前景。

主权项:1.一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液,其特征在于,由1-10wt.%的磨料、0.5-5wt.%的氧化剂、10-150mmolL的络合剂、pH调节剂以及余量的水组成,所述络合剂为柠檬酸或柠檬酸盐。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国矿业大学(北京) 一种用于钴互连阻挡层钛的化学机械抛光液及化学机械抛光方法

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