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申请/专利权人：欧浦登(顺昌)光学有限公司;福州欧浦登光电有限公司
摘要：本发明公开了一种玻璃碱蚀刻工艺，其工艺过程包括将玻璃基板浸没于碱蚀刻液内浸泡，其中所述碱蚀刻液为浓度为40%～56%的氢氧化钠溶液，碱蚀刻液的温度为100℃～130℃，浸泡时间为100min～300min。本发明所述玻璃碱蚀刻工艺可用于玻璃的减薄加工、玻璃的表面防眩加工以及用于将防眩玻璃的微纳凹凸点的凸点荡平实现无闪和低闪效果，通过选择工业“两碱”中的氢氧化钠（烧碱）改酸蚀刻为碱蚀刻，提高了超薄电子玻璃的蚀刻精度，降低了生产成本，而且生产过程中不产生含氟废水和危废含氟石灰污泥，减少了对环境的污染，具有重大的环保创新减污减排效果。
主权项：1.一种玻璃碱蚀刻工艺，其特征在于：其工艺过程包括将玻璃基板浸没于碱蚀刻液内浸泡，其中所述碱蚀刻液为浓度为40%～56%的氢氧化钠溶液，碱蚀刻液的温度为100℃～130℃，浸泡时间为100min～300min。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 欧浦登(顺昌)光学有限公司 福州欧浦登光电有限公司 一种玻璃碱蚀刻工艺及其应用
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